发布日期：2025-09-11 浏览次数：6
在现代水处理与过程控制领域，SEKO西科仪表因其高精度、稳定性和智能化而被广泛应用。其中，传感器作为仪表的核心组成部分，是水质检测、化学剂量控制、过程监测的重要执行单元。然而，传感器在长期运行过程中，常常因污垢、藻类、化学沉淀物或杂质附着而出现灵敏度下降、数据偏差或响应迟钝等问题。因此，定期清洗与维护传感器至关重要。本文将详细介绍SEKO西科仪表传感器的清洗方法及其作用，帮助用户保障设备的长期稳定运行。
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一、SEKO西科仪表传感器的作用
1.实时监测水质参数
SEKO传感器可测量pH、ORP、余氯、电导率、溶解氧、浊度等关键指标，保障工业水处理、市政水务、泳池水质等场景下的合格运行。
2.保障加药的精准性
传感器的数据直接决定计量泵的投药精度。例如，pH传感器反馈信号用于自动调整酸碱药剂的投加比例。
3.维持工艺稳定与安全
在化工、食品饮料、电厂冷却水等应用中，传感器能确保浓度、氧化还原电位等参数处于安全范围，避免腐蚀、结垢或细菌滋生。
4.延长设备寿命
稳定的传感器数据使控制系统精准运行，减少泵与管路因过量加药或失控运行造成的损伤。
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二、传感器易受污染的原因
1.水中悬浮物过多：污水厂、循环冷却水中易有泥沙或颗粒物附着。
2.有机物沉积：池水或养殖水体中的藻类、细菌会形成生物膜。
3.化学结晶：高硬度水或高盐水中，碳酸钙、氯化钠易在探头表面结垢。
4.药剂干扰：消毒剂、酸碱药剂可能导致电极表面反应层生成，影响电极活性。
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三、SEKO传感器的清洗方法
1.物理清洗
•软布擦拭：用无纤维脱落的湿润软布轻轻擦拭探头表面，适用于轻度污染。
•软毛刷清理：针对藻类或轻微附着物，用软毛刷轻刷，不可使用硬质工具，以免损伤电极膜层。
•超声波清洗：适用于油污、细微颗粒较多的场景，将传感器放入超声波清洗槽中进行低频清洗。
2.化学清洗
•酸性清洗：当探头表面出现结垢（如碳酸盐、氢氧化物沉积）时，可用1-5%的稀盐酸或柠檬酸溶液浸泡几分钟，再用纯水冲洗。
•碱性清洗：若有油污或有机物沉积，可用0.1M氢氧化钠溶液清洗。
•氧化剂清洗：当出现生物膜时，可用稀释的次氯酸钠溶液浸泡，然后用去离子水彻底冲洗。
3.专业清洗液
SEKO推荐使用专用的电极清洗液，根据不同传感器材质（玻璃电极、金属电极、光学探头等）选择对应的溶液，以避免腐蚀。
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四、清洗后的维护与校准
1.用去离子水冲洗，确保无残留酸碱或化学药剂。
2.轻轻擦干或自然晾干，避免高温烘干。
3.定期校准：清洗后需重新使用标准溶液（如pH缓冲液、电导标准液）进行标定，以恢复传感器精度。
4.检查电缆与接头，避免因潮湿或污垢影响信号传输。
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五、定期清洗的意义
1.保证监测数据的准确性：有效防止因探头污染造成的漂移或异常。
2.延长传感器使用寿命：降低探头老化速度，减少更换成本。
3.提高系统稳定性：保障加药系统或工艺过程自动化控制的可靠性。
4.降低运维成本：减少因错误数据导致的药剂过量投加、设备损坏等隐性损失。
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六、结论
SEKO西科仪表传感器是智能水处理和工业控制的重要组成部分，其稳定运行直接决定系统的安全与高效。传感器在使用过程中不可避免会受到污染和沉积物的影响，因此必须定期进行物理和化学清洗，并结合正确的维护与校准方法。科学的清洗方案不仅能恢复传感器的灵敏度和准确性，还能显著延长其使用寿命，为企业降低运维成本，提升整体水处理系统的运行质量。
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